Pues ya terminé otra campana a estilo "pofezional", y los resultados fueron muy buenos.
Con la rotatoria consigo vacios de 50 micras en menos de 1 minuto , y dejando 2 o 4 minutos consigo menos de 15 micras.
http://alfon.fansub.org/sputtering/sputtering.htm
Podeis ver las imágenes en el enlace.
Algo curioso de esta campana, es que las tapas las torneé con alumínio para refrigerar bien el target y el imán y así poder trabajar más tiempo, pero parece que a menos de 50 micras el sputtering no se concentra en el imán, y aparece por las paredes de aluminio.
A alguien le ha pasado lo mismo ?
Para solucionarlo sin hacerle una emvoltura de hierro, pues usé un imán para reforzar el pequeño imán del target, pero al ponerlo por encima no reforzaba muy bien y hacía nuves raras de ionización.
Luego se me ocurrió poner el imán debajo de la pieza a platear, y parece que solo funciona en un sentido, al ponerlo en sentido contrario pasa igual que no hace sputtering en el target.
Y otro problemilla que tenía es que a menos de 25 micras aprox, no arranca , tengo que cerrar el grifo hasta que sube un poco la presión y entonces empieza el sputtering, luego bajo la intensidad para que el primer deposito de plata no quede oscuro, y cuando la presión es de unos 10 micras entonces le subo la intensidad.
Todo y haciendo eso la primera capa queda algo oscura, y hice un arrancador tipo bobina tesla, y ahora le aplico unos 5KV para arrancar, de esta forma puedo arrancar a menos de 25 micras y la plata queda muy "blanca" en las primeras capas.
A alguien le pasa lo mismo y ha tenido que usar el mismo método ? O el diseño de mi campana no fue la idonea por eso me pasa a mi ?
Bueno, solo comento mi caso, en principio la campana estará lista para platear las caras de un rubí para hacer un laser de rubí. Ya publicaré más sobre el laser.
Saludos
